功能概述：

晶圓半導(dǎo)體接觸角測(cè)量?jī)x特別訂制的圓形樣品臺(tái)專用于晶圓（Wafer）樣品的測(cè)試。通過測(cè)試液滴在晶圓樣品表面形成接觸角的大小，來檢測(cè)其表面的潔凈程度和評(píng)估表面處理的工藝效果。

晶圓接觸角測(cè)量?jī)x技術(shù)指標(biāo)：

1.接觸角測(cè)量 1.1.分析算法：量高法、量角法、圓環(huán)法、橢圓法、切線法、Y-L法

1.2.具有左接觸角、右接觸角和平均接觸角分開測(cè)試和比較功能

1.3.具有凹面、凸面、弧面、超親水、超疏水等特殊表面分析功能

1.4.具有不規(guī)則形、非軸對(duì)稱本征接觸角的分析功能

1.5.具有自動(dòng)分析接觸角變化過程的批處理測(cè)試功能

1.6.測(cè)量范圍：0°～180°

1.7.測(cè)量精度：±0.1°

1.8.提供標(biāo)定塊，可隨時(shí)對(duì)測(cè)量精度進(jìn)行校準(zhǔn)

1.9.測(cè)量分辨率：0.001°

2.張力測(cè)量 2.1.分析算法：手動(dòng)法、自動(dòng)法

2.2.測(cè)量范圍：0.01～2000mN/m

2.3.測(cè)量精度：±0.1%

2.4.測(cè)量分辨率：0.001mN/m

3.表面能估算 3.1.估算模型：Fowkes、擴(kuò)展Fowkes、Owens-Wendt、van OSS、Wu調(diào)和平均法、狀態(tài)方程法

3.2.可分別得到固體表面能、色散力、極性力、氫鍵力、范德華分量、路易斯酸分量、路易斯堿分量等

3.3.液體數(shù)據(jù)庫(kù)：預(yù)置37種常用液體表面張力及其分量數(shù)據(jù)，數(shù)據(jù)可直接調(diào)入用于表面能估算

3.4.液體庫(kù)數(shù)據(jù)可自行添加、刪除和修改

4.潤(rùn)濕性分析 4.1.通過液體的表面張力和對(duì)固體的接觸角可分析該固體的潤(rùn)濕程度，包括粘附功、鋪展系數(shù)和粘附張力

5.數(shù)據(jù)管理 5.1.通過試驗(yàn)?zāi)０灞４嬖囼?yàn)信息、試驗(yàn)數(shù)據(jù)和圖片

5.2.新建的試驗(yàn)?zāi)０灞４婧罂芍貜?fù)調(diào)入使用

5.3.可對(duì)試驗(yàn)數(shù)據(jù)進(jìn)行修改、刪除和調(diào)入再分析等

5.4.試驗(yàn)數(shù)據(jù)可標(biāo)注于圖片上，并隨圖片一起保存

5.5.試驗(yàn)結(jié)果可導(dǎo)出至Word、Excel和PDF

6.圖像拍攝 6.1.單張拍攝、連續(xù)拍攝、視頻錄制和圖片回放

6.2.可選擇采用相機(jī)外觖發(fā)功能自動(dòng)拍攝

7.光學(xué)成像系統(tǒng) 7.1.相機(jī)：300萬像素、幀率200幀/秒

7.2.鏡頭：0.7～4.5×連續(xù)變倍、工作距離320mm

7.3.調(diào)焦范圍：±12.5mm；調(diào)焦精度：0.25mm

7.4.調(diào)焦時(shí)軟件自動(dòng)檢測(cè)清晰度，消除人為誤差

7.5.水平和俯仰調(diào)整范圍：±2°

7.6.背光源：黃色LED冷光源+遮光板，亮度無極調(diào)節(jié)

8.滴液系統(tǒng) 8.1.滴液方式：軟件控制進(jìn)樣器自動(dòng)滴液和自動(dòng)升降

8.2.最小滴液量：0.05μl/滴

8.3.滴液精度：±0.01μl

9.樣品臺(tái) 9.1.臺(tái)面尺寸：?300mm

9.2.移動(dòng)行程：X300×Y300×Z50mm

9.3.移動(dòng)方式：軟件控制樣品臺(tái)單點(diǎn)或多點(diǎn)自動(dòng)定位+手控?fù)u桿任意定位

9.4.樣品臺(tái)多點(diǎn)移動(dòng)的運(yùn)行參數(shù)可預(yù)先設(shè)置并保存，之后可重復(fù)調(diào)入使用

10.主機(jī)參數(shù) 10.1.尺寸：約W1080×D535×H600mm

10.2.重量：約95kg

10.3.電源：1∮ AC220V 50HZ

晶圓半導(dǎo)體接觸角測(cè)量?jī)x標(biāo)準(zhǔn)配置：

1.測(cè)控軟件：1套

2.控制器：1套

3.手控?fù)u桿：1套

4.微量進(jìn)樣器：2支

5.儲(chǔ)液瓶：1個(gè)

6.接觸角標(biāo)定塊：1塊

7.水平尺：1個(gè)

8.工具：1套